उत्पादनहरू
-
प्राकृतिक ग्याँस को द्रवीकरण
-
अक्सिजन शुद्धीकरण र उपयोग
-
दबाव स्विंग सोखना द्वारा नाइट्रोजन उत्पादन
-
फ्लू ग्यास डिनिट्रिफिकेशन SCR, SNC
-
गीला CO2 हटाउने प्रविधि
-
खाद्य ग्रेड CO2 शुद्ध
-
फ्लू ग्याँस CO2 रिकभरी टेक्नोलोजी
-
एकाइ डिसल्टिङ र डिमिनरलाइजेसन उपकरण र विशेष राल
-
मिथेन निकासी प्रविधि - कोलबेड मिथेन
-
NHD विधि प्रयोग गरेर डिसल्फराइजेशन र CO2 हटाउने प्रविधि
-
इथिलीन टेल ग्याँस रिकभरी
-
रेडक्स गीला विधि प्रयोग गरी डिसल्फराइजेशन प्रविधि
-
आर्गन शुद्धिकरण
-
ब्याट्री सामग्री अग्रसर उत्पादन प्रविधि
-
आयनिक तरल डिसल्फराइजेशन टेक्नोलोजी
-
दबाव स्विंग सोखना द्वारा हाइड्रोजन शुद्धीकरण प्रविधि
अमोनिया प्रयोग गरी फ्लु ग्यास डिसल्फराइजेशन प्रविधि
अमोनिया विधि प्रयोग गरेर डिसल्फराइजेशनको उप-उत्पादन अमोनियम सल्फेट उर्वरक हो; 1 टन अमोनियाबाट तपाईले 4 टन उप-उत्पादन अमोनियम सल्फेट प्राप्त गर्न सक्नुहुन्छ, र यसको नाफा अमोनियम सल्फेट र अमोनियाको मूल्यमा निर्भर गर्दछ।
विवरण
मार्कर
प्रयोग गर्नुहोस्:
अमोनिया प्रयोग गरी फ्लु ग्यास डिसल्फराइजेशन प्रविधि
प्रविधिको विवरण
अमोनिया विधि प्रयोग गरेर डिसल्फराइजेशनको उप-उत्पादन अमोनियम सल्फेट उर्वरक हो; 1 टन अमोनियाबाट तपाईले 4 टन उप-उत्पादन अमोनियम सल्फेट प्राप्त गर्न सक्नुहुन्छ, र यसको नाफा अमोनियम सल्फेट र अमोनियाको मूल्यमा निर्भर गर्दछ।
निर्दिष्टीकरणहरू
1, परिपक्व र भरपर्दो प्रविधि
यो टेक्नोलोजी अधिक अनुकूलनीय छ, 98% भन्दा बढी उत्पादन लोडको 30% देखि 110% सम्मको डिसल्फराइजेसन दक्षतालाई समर्थन गर्न सक्छ, र स्थिर सञ्चालन प्राप्त गर्न फ्लु ग्यासमा खरानीको आकारलाई ध्यान नदिई परिपक्व र भरपर्दो छ।
2, आर्थिक र सामाजिक लाभ स्पष्ट छ
एक टन अमोनियाले 2 टन सल्फर डाइअक्साइड छोड्न सक्छ र 4 टन अमोनियम सल्फेट उत्पादन गर्न सक्छ, जसले केही अवस्थामा डिसल्फरन्टको लागत थोरै अतिरिक्तको साथ अफसेट गर्दछ। बिजुलीको मूल्यमा सहुलियत दिएमा नाफा कमाउन सकिन्छ; यदि फोहोर अमोनिया उपलब्ध छ भने, यसलाई पुन: प्रयोग गर्न सकिन्छ र महत्त्वपूर्ण आर्थिक लाभ प्राप्त गर्न सकिन्छ।
3, यो प्रविधिले फोहोर पानीबाट फोहोरको निकासी समावेश गर्दैन र पानी प्रशोधन वा ठोस फोहोर डिस्पोजल प्लान्टको आवश्यकता पर्दैन।
अनुप्रयोगहरू
यो प्रविधि सबै प्रकारका फ्लू ग्याँसहरूको लागि प्रयोग गर्न सकिन्छ, जस्तै: अलौह धातु विज्ञानको फ्लू ग्यासहरू (रिंग एकाग्रताको फ्लू ग्यासहरू, सल्फ्यूरिक एसिडको निकास ग्यासहरू); बोयलर धुवाँ; क्लाउस उत्सर्जन; उत्प्रेरक फ्लू ग्याँस पुनर्जनन।
प्राविधिक प्रक्रिया
प्राविधिक समाधान I: स्तम्भमा फ्लू ग्याँसहरूको अवशिष्ट तापको वाष्पीकरण द्वारा क्रिस्टलाइजेशनको लागि प्रस्ताव (कम खरानी सामग्रीमा)
प्राविधिक समाधान II: स्तम्भ बाहिर वाष्पीकरण द्वारा क्रिस्टलाइजेशन (फ्लु ग्यासमा उच्च खरानी सामग्री संग)
सामान्य परिणामहरू
| निर्माता | स्केल | नोटहरू |
| Guangxi उर्वरक प्लान्ट | 160,000 Nm3/h | सल्फ्यूरिक टेल ग्यास |
| शेडोङ थर्मल पावर प्लान्ट | बोयलर 240th3 | बोयलर धुवाँ |
| शानक्सी मा रासायनिक प्लान्ट | बोयलर 220th3 | बोयलर धुवाँ |
| सिचुआन बिरुवा | बॉयलर 130 tx2 | बोयलर धुवाँ |
हामीलाई सम्पर्क गर्नुहोस्
सम्बन्धित लोकप्रिय उत्पादनहरू
दबाब स्विङ सोखना द्वारा अक्सिजन उत्पादन
1994 देखि, हाम्रो कम्पनीले हावा पृथकीकरण विधि PSA (VPSA-O2) को प्रयोग गरेर अक्सिजन उत्पादन प्रविधिको विकास र प्रयोगमा काम गर्न थाल्यो, र मे 1995 मा, हामीले PSA विधि प्रयोग गरेर औद्योगिकीकरण र अक्सिजन उत्पादन प्लान्ट निर्माण गर्यौं। कम्पनीले निर्माण गरेको अक्सिजन प्लान्टमा उत्कृष्ट कार्यसम्पादन, कम उत्पादन लागत र वातावरणीय प्रदूषण छैन। कम्पनी पेटेन्टेड टेक्नोलोजीहरूको निर्माता हो, साथै स्वामित्व LIX लिथियम अक्सिजन शोषक र ठूलो बोर नियन्त्रण भल्भको उत्पादन हो।
आर्गन शुद्धिकरण
कम्प्रेसन पछि रिच आर्गन सोखन स्तम्भमा प्रवेश गर्दछ, जुन PSA-Ar चरणमा शोषण अवस्थामा हुन्छ, CO2, N2 र O2 को भाग जस्ता अशुद्धताहरू सोखनद्वारा सोखिन्छन्, र गैर-अशोषित आर्गन उत्पादनको रूपमा स्तम्भको माथिबाट बाहिर निस्कन्छ, a9999-999 फ्रिक्वेन्सी उत्पादन गर्दै। स्थापना मापन: 100~5000nm³/h।
खाद्य ग्रेड CO2 शुद्ध
खाद्य CO₂ शुद्ध अन्तर्राष्ट्रिय रूपमा मान्यता प्राप्त नयाँ उत्प्रेरक अक्सिडेशन शुद्धीकरण प्रविधि अपनाएर, उत्प्रेरक शुद्धीकरण टावरले नयाँ प्रकारको आन्तरिक शीतलन उपकरण अपनाउँछ, जसले गर्दा बेडको तापक्रम वितरण उपयुक्त प्रतिक्रिया क्षेत्र, सामान्य उत्पादन ताप सन्तुलन, विद्युतीय भट्टीहरूको प्रयोग घटाउन र उत्प्रेरकको सेवा जीवन विस्तार गर्न सकिन्छ।
मिथानोल विभाजन गरेर हाइड्रोजन उत्पादन
यो प्रक्रिया मिथेनोलको सुविधाजनक स्रोत र कच्चा पदार्थको रूपमा पानी डिसेल्टिङमा आधारित छ, 220-280 डिग्री सेल्सियसको तापक्रममा, एक विशेष उत्प्रेरकलाई हाइड्रोजन र कार्बन डाइअक्साइड युक्त ग्यासमा उत्प्रेरित गरिन्छ, जसको सिद्धान्त निम्नानुसार छ: मुख्य प्रतिक्रिया: CH3OH=CO+2H2=CO+2H2=CO+2H2/900mol -41.2 kJ/mol सामान्य प्रतिक्रिया: CH3OH+H2O=CO2+3H2 +49.5 kJ/mol सहायक प्रतिक्रिया: 2CH3OH=CH3OCH3+H2O -24.9 kJ/mol CO+3H2=CH4+H2O -+206.3 kJ/mol
ब्याट्री सामग्री अग्रसर उत्पादन प्रविधि
स्टिल मिलहरूमा फोहोर हाइड्रोक्लोरिक एसिडको पुन: उत्पादनले मुख्यतया हाइड्रोक्लोरिक एसिडको पुन: प्रयोग र फलामको पाउडरको पुन: प्रयोग गर्ने, फोहोर पानी उत्सर्जन घटाउने, वातावरणीय समस्याहरू समाधान गर्न प्रमुख भूमिकाको समाधान गर्दछ। स्प्रे रोस्टिङ हाइड्रोक्लोरिक एसिड पुनर्जन्म विधिहरू पनि हाइड्रोक्लोरिनेटेड टाइटेनियम सेतो उद्योग लीच समाधानहरू पुन: उत्पन्न गर्न प्रयोग गर्न सकिन्छ, कोबाल्ट क्लोराइड प्रयोग गरेर कोबाल्ट अक्साइड पाउडरहरू उत्पादन गर्न र क्लोराइड (विभिन्न धातु क्लोराइडहरूको हाइड्रोक्लोरिक एसिड पुनर्जनन) प्रयोग गरेर विभिन्न धातु अक्साइडहरू उत्पादन गर्न सकिन्छ।
दबाव स्विंग सोखना द्वारा CO2 हटाउने
PSA CO पृथकीकरण टेक्नोलोजी सिंथेटिक अमोनिया, मेथानोल, क्षार र औद्योगिक CO2 पृथकीकरण डेकार्बोनाइजेशन प्लान्टहरूमा व्यापक रूपमा प्रयोग गरिन्छ, साथै CO2 युक्त टेल ग्यास रिकभरी प्लान्टहरू, उच्च स्तरको स्वचालन, हटाउने परिशुद्धताको सुविधाजनक नियन्त्रण, कम ऊर्जा खपत र अनुप्रयोगहरूको विस्तृत श्रृंखलाको कारण।
दबाव स्विंग सोखना द्वारा CO हटाउने
कार्बन मोनोअक्साइड भएको मिश्रणबाट कार्बन मोनोअक्साइडको शुद्धीकरण PSA प्रविधिद्वारा गरिन्छ। पहिले फिड ग्यासबाट कार्बन डाइअक्साइड, नमी र सल्फरको निशान हटाउनुहोस्; शुद्ध ग्यासले हाइड्रोजन, नाइट्रोजन, मिथेन र अन्य अशुद्धताहरू हटाउन VPSA एकाइमा प्रवेश गर्दछ, शोषण गरिएको कार्बन मोनोअक्साइड डिकम्प्रेसनको समयमा भ्याकुम डिसोर्प्शन पछि उत्पादनको रूपमा हटाइन्छ।
शोषक
एक adsorbent एक ठोस पदार्थ हो जसले प्रभावकारी रूपमा ग्यास वा तरल पदार्थबाट केहि घटकहरू सोख्न सक्छ। Adsorbents सामान्यतया निम्न विशेषताहरु छन्: ठूलो विशिष्ट सतह क्षेत्र, उपयुक्त छिद्र संरचना र सतह संरचना
फ्लू ग्यास डिनिट्रिफिकेशन SCR, SNC
टेक्नोलोजी विवरण टेक्नोलोजी विवरण दुई मुख्य डिनिट्रेसन विधिहरू छन् (१) चयनात्मक उत्प्रेरक रिडक्शन (SCR) प्रविधि र (२) चयनात्मक गैर-पूँजी कटौती (SNCR) प्रविधि।
रेडक्स गीला विधि प्रयोग गरी डिसल्फराइजेशन प्रविधि
HDS cyanogen desulfurization र हटाउने प्रविधि एक गीला अक्सिडेशन विधि हो, जुन Huaxi र सिंथेटिक अमोनिया र कोक उद्योगमा वैज्ञानिक र प्राविधिक कर्मचारीहरू द्वारा विकसित एक विशिष्ट डिसल्फराइजेशन विधि हो, जसले ग्यासमा H2S को desulfurization प्रतिशत कम्तिमा 99.9% भन्दा बढी हुन अनुमति दिन्छ। ९७%।
MEA-MDEA-NHD डिसल्फराइजेशन टेक्नोलोजी
एक ठेठ अमाइन डिसल्फुराइजेसन र डिकार्बोनाइजेसन प्रक्रियामा चार भागहरू हुन्छन्: अवशोषण, फ्ल्याश वाष्पीकरण, ताप विनिमय र पुनर्जनन (स्ट्रिपिङ)।
एकाइ डिसल्टिङ र डिमिनरलाइजेसन उपकरण र विशेष राल
यो एकाइ आयनिक तरल फ्लु ग्यास डिसल्फुराइजेशन परियोजनाको लागि एक विशेष ब्लक उपकरण हो र आयनिक तरल डिसल्फुराइजेशन प्रक्रियाको लागि मुख्य उपकरण हो, डिसल्टिङ उपकरण आयनिक तरलमा सल्फ्यूरिक एसिड जरा, क्लोरीन र फ्लोरिन जस्ता हानिकारक अशुद्धताहरू हटाउन डिजाइन गरिएको हो; सोडियम हटाउने यन्त्रहरू आयनिक तरलमा सोडियम जस्ता हानिकारक क्याशनिक अशुद्धताहरू हटाउन प्रयोग गरिन्छ।
MPS decarbonization प्रविधि
यो प्रविधि फ्लु ग्याँसहरूबाट हरितगृह ग्यास CO2 निकाल्न प्रयोग गरिन्छ, र बरामद CO2 लाई प्राकृतिक ग्यासलाई फिडस्टकको रूपमा प्रयोग गरेर मिथानोल वा यूरियामा कार्बन असंतुलन समस्या समाधान गर्न प्रयोग गर्न सकिन्छ।
कोइला ग्यास जैविक सल्फर ठीक हटाउने प्रविधि
ब्लास्ट फर्नेस ग्यासमा अर्गानिक सल्फर, H2S र अन्य अशुद्धता हुने भएकाले, यदि ब्लास्ट फर्नेस ग्यासलाई इन्धनको रूपमा प्रयोग गरिन्छ भने, फ्लु ग्यासमा रहेको SO2 उत्सर्जन मापदण्डहरू पूरा गर्दैन। उत्सर्जन कम गर्न दुईवटा मुख्य उपायहरू छन्: ब्लास्ट फर्नेस ग्यास डिसल्फराइजेसन वा निकास फ्लु ग्यास डिसल्फुराइजेशन।
अक्सिजन शुद्धीकरण र उपयोग
लिथियम ब्याट्रीको उत्पादन र दहन प्रक्रियामा, अवशिष्ट उच्च-तापमान अक्सिजन युक्त फ्लु ग्यास उत्पन्न हुन्छ, परम्परागत विधिमा, सामान्यतया वातावरणीय उपचार पछि, यो सीधा निकास ग्यासको रूपमा वायुमण्डलमा डिस्चार्ज गरिन्छ, जसले उत्पादन प्रक्रियामा ठूलो अक्सिजन खपत निम्त्याउँछ, ब्याटरको उच्च ऊर्जा खपत बढ्छ।
विशेष एसिड पुनर्जन्म उपकरण
एसिड पुनरुत्थान प्राविधिक सेवाहरू: एसिड पुनरुत्थान प्राविधिक सेवाहरू प्रदान गर्दै, सूचकहरू प्राप्त गर्न एसिड पुनर्जन्म प्लान्टको स्तरवृद्धि (१० भन्दा बढी सेटहरू निर्माण गरिएको छ, HCl र धुलो 15 mg/Nm3 भन्दा बढी छैन)